스퍼터링 타겟은 반도체 제조, 디스플레이 기술, 태양 전지, 광학 코팅, 자기 저장 매체, 항공 우주, 자동차 및 연구를 포함한 다양한 산업에서 매우 중요합니다.

스퍼터링 타겟은 박막 증착 기술 분야에서 필수적인 구성 요소입니다. 다양한 기판에 박막을 생성하기 위한 재료의 소스 역할을 합니다.

스퍼터링은 스퍼터링 타겟에서 원자를 방출하고 방출된 원자를 고진공 환경에서 기판에 응축시켜 기판에 재료를 증착하는 데 사용되는 물리 기상 증착(PVD) 공정입니다.

물리학에서 스퍼터링은 물질 자체가 플라즈마 또는 가스의 에너지 입자에 의해 충격을 받은 후 고체 물질의 미세한 입자가 표면에서 분출되는 현상입니다.

PVD는 Physical Vapor Deposition의 약자로, 고온 및 진공을 사용하여 다른 재료의 얇은 층으로 재료를 코팅하는 공정입니다.