PVD는 Physical Vapor Deposition의 약자로, 고온 및 진공을 사용하여 다른 재료의 얇은 층으로 재료를 코팅하는 공정입니다.
물리학에서 스퍼터링은 물질 자체가 플라즈마 또는 가스의 에너지 입자에 의해 충격을 받은 후 고체 물질의 미세한 입자가 표면에서 분출되는 현상입니다.
스퍼터링은 스퍼터링 타겟에서 원자를 방출하고 방출된 원자를 고진공 환경에서 기판에 응축시켜 기판에 재료를 증착하는 데 사용되는 물리 기상 증착(PVD) 공정입니다.
스퍼터링 타겟은 박막 증착 기술 분야에서 필수적인 구성 요소입니다. 다양한 기판에 박막을 생성하기 위한 재료의 소스 역할을 합니다.