알루미늄(Al) 스퍼터링 타겟

제품

알루미늄(Al) 스퍼터링 타겟

속성 이름

금속 스퍼터링 타겟
상품명

알루미늄(Al) 스퍼터링 타겟
요소 기호

Al
청정

4N,5N,5N5,6N
모양

평면, 회전식, 음극

조회를 요청하다

또는 칼 +86-731-84027969

설명

리뷰

알루미늄 스퍼터링 타겟은 금속 알루미늄과 동일한 기능을 합니다. 알루미늄은 기호 Al과 원자 번호 13을 갖는 화학 원소입니다. 붕소 그룹의 은백색, 연질, 비자성 및 연성 금속입니다. 알루미늄은 밀도가 낮고 패시베이션 현상을 통해 부식에 저항하는 능력이 뛰어납니다. 알루미늄 및 그 합금은 항공 우주 산업에 필수적이며 건물 외관 및 창틀과 같은 운송 및 건축 산업에서 중요합니다. 3N8-4N8 순수 알루미늄은 롤링 전해 커패시터 알루미늄 호일, 조명 기구 및 데이터 저장에 사용됩니다. 5N-6N 초순수 알루미늄은 반도체 소자 제조에 사용되며, 광전자 저장 매체 제작, 초전도 케이블 안정화 재료, 우주 왕복선 과학 연구.

다음은 당사 알루미늄 스퍼터링 타겟의 두 가지 현미경 사진입니다. 평균 입자 크기는 300μm

우리가 생산한 스퍼터링 타겟은 고순도이며, 가장 중요한 이점은 필름이 PVD 공정 중에 뛰어난 수준의 전기 전도도와 입자 형성을 최소화한다는 것입니다. 아래 양식은 일반적으로 당사의 알루미늄 스퍼터링 타겟에 대한 분석 인증서입니다. 순도가 높으며, 가장 중요한 이점은 필름이 PVD 공정 중에 뛰어난 수준의 전기 전도도와 입자 형성을 최소화한다는 것입니다.

다음은 일반적으로 5N 알루미늄 스퍼터링 타겟에 대한 분석 인증서입니다.

알루미늄 스퍼터링 타겟 준비를 위한 공정 흐름

재료 준비-영역 제련-화학 분석-단조-압연-어닐링-금속 조직 검사-가공-크기 검사-청소-최종 검사-포장

알루미늄 스퍼터링 타겟 및 그 제조방법

알루미늄은 보크사이트에서 Al2O3를 추출하고 녹은 빙정석에서 전기 분해하여 얻습니다. 순도는 일반적으로 99% 이상입니다. 그러나 이러한 순도의 알루미늄은 알루미늄 타깃 제조의 원료로 사용할 수 없다 . 첫 번째이자 가장 중요한 요구 사항은 높은 순도입니다. 알루미늄 타겟에 사용되는 고순도 알루미늄은 편석, 3층 전기분해 또는 복합 구역 제련을 통해 생산됩니다. 공업용 순알루미늄 99.7 보다 가격이 비싸고 , 중국 최고 순도는 99.9999%(6N) 정도다. 고순도 알루미늄 주괴를 원료로 하여 원료를 단조, 압연, 열처리하여 알루미늄의 알갱이를 만들 수 있습니다. 스퍼터링을 위한 알루미늄 타겟의 요구 사항을 충족하기 위해 잉곳이 작아지고 밀도가 증가합니다. 변형 후 고순도 알루미늄 소재를 기계적 가공으로 가공합니다. 알루미늄 타깃 가공은 고정밀 및 표면 품질이 요구되며 진공 코팅기에서 요구하는 타깃 사이즈로 가공이 가능합니다.

다음은 일반적으로 5N 알루미늄 스퍼터링 타겟에 대한 분석 인증서입니다.

알루미늄 스퍼터링 타겟 준비를 위한 공정 흐름

관련 스퍼터링 재료