크롬(Cr) 스퍼터링 타겟

제품

크롬(Cr) 스퍼터링 타겟

속성 이름

금속 스퍼터링 타겟
상품명

크롬 스퍼터링 타겟
요소 기호

Cr
청정

2N5, 2N7, 2N8, 3N, 3N5
모양

평면 타겟, 회전 타겟, 아크 음극

조회를 요청하다

또는 칼 +86-731-84027969

설명

리뷰

크롬 스퍼터링 타겟은 금속 크롬(Cr)과 동일한 특성을 가지고 있으며, 크롬은 기호 Cr과 원자 번호 24를 갖는 화학 원소이며, 강철 회색, 광택, 단단하고 부서지기 쉬운 전이 금속입니다. 크롬은 또한 부식 방지 특성을 추가하는 스테인리스 스틸의 주요 첨가제입니다. 크롬 스퍼터링 타겟 및 크롬 음극은 일반적으로 장식 코팅 및 도구 코팅에 사용됩니다.

장식용 코팅을 증착하기 위해 크롬 타겟을 사용할 때 크롬 박막은 시계, 전자 제품, 가전 제품의 작동 요소 및 기타 다양한 제품에서 매력적인 광택을 낼 수 있습니다. 장식용 크롬 코팅은 마그네트론 스퍼터링 방법으로 적용됩니다. 내마모성 및 접착성 층은 아크 증발 방법으로도 생성할 수 있습니다.

경질 재료 코팅 크롬(Cr) 및 크롬 질화물(CrN)은 피스톤 링과 같은 엔진 부품을 조기 마모로부터 최적으로 보호하고 결과적으로 중요한 엔진 부품의 유효 수명을 연장합니다. 크롬은 예를 들어 버킷 태핏과 같은 DLC 코팅(Diamond Like Carbon)을 위한 접착층으로도 사용됩니다.

미세 구조는 유연한 생산 공정으로 조정하여 원하는 효과를 얻을 수 있습니다. 스퍼터링 타겟의 입자가 균일하게 정렬되면 사용자는 일정한 침식률과 균질한 층의 이점을 얻을 수 있습니다. 아래 사진은 평균 입자 크기가 100μm 미만인 크롬 스퍼터링 타겟의 두 현미경 사진입니다.

당사의 크롬 스퍼터링 타겟은 고순도이며 가장 중요한 이점은 필름이 PVD 공정 중에 뛰어난 수준의 전기 전도도와 입자 형성을 최소화한다는 것입니다. 다음은 3N5 크롬 스퍼터링 타겟에 대한 일반적인 분석 인증서입니다.

화학 사양:

1. 금속원소는 GDMS와 ICP-OES로 분석하였다.

2. 가스 원소는 LECO로 분석하였다.

게다가, 우리는 또한 티타늄 스퍼터링 캐소드, 지르코늄 스퍼터링 캐소드, 티타늄 알루미늄 TiAl 스퍼터링 캐소드, TiAlSi, 장식 및 도구 코팅용 TiSi 캐소드를 공급합니다. 자세한 내용은 당사에 문의하십시오.

화학 사양:

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