구리(Cu) 스퍼터링 타겟

제품

구리(Cu) 스퍼터링 타겟

속성 이름

금속 스퍼터링 타겟
상품명

구리 스퍼터링 타겟
요소 기호

Cu
청정

3N5,4N,4N5,5N,6N
모양

평면

조회를 요청하다

또는 칼 +86-731-84027969

설명

리뷰

구리 스퍼터링 타겟은 금속 구리와 동일한 특성을 가집니다.（Cu）.Copper는 기호 Cu(라틴어: cuprum에서 유래)와 원자 번호 29를 가진 화학 원소입니다. 매우 높은 열 및 전기 전도성을 가진 부드럽고 가단성이며 연성이 있는 금속입니다 . 갓 노출된 순수한 구리는 분홍빛이 도는 주황색입니다. 구리는 열과 전기의 전도체, 건축 자재 및 다양한 금속 합금의 구성 요소로 사용됩니다. 구리 스퍼터링 타겟은 용융 기술로 생산되며 반도체, 장식 코팅 및 고급 포장 분야에 널리 적용됩니다.

순도 99.9%~99.9999%의 구리 스퍼터링 타겟을 생산할 수 있으며, 최저 산소 함량은 등에 사용됩니다. 평면 구리 스퍼터링 타겟(최대 G8.5 세대)뿐만 아니라 주로 터치 스크린 산업에 사용되는 구리 회전 타겟도 생산합니다. 입자를 부수기가 어렵기 때문에 매우 큰 변형으로만 처리하고 쌍정의 성장을 제어하여 미세하고 균일한 미세 구조를 달성하여 스퍼터링 중에 입자 형성의 침식률과 민감도를 낮출 수 있습니다.

다음은 구리 스퍼터링 타겟의 두 가지 현미경 사진입니다. 평균 입자 크기는 ±50μm입니다.

화학 사양:

우리의 구리 스퍼터링 타겟은 고순도이며 가장 중요한 이점은 필름이 PVD 공정 중에 뛰어난 전기 전도도와 입자 형성을 최소화한다는 것입니다.다음은 일반적으로 5N 구리 스퍼터링 타겟에 대한 분석 인증서 입니다 .

구리 스퍼터링 타겟 준비 공정

재료 준비-전해 정제 및 전자 빔 용융-화학 분석-단조-압연-어닐링-금속 조직 검사-가공-치수 검사-세척-최종 검사-포장

구리 스퍼터링 타겟 및 그의 제조방법

구리는 다중 전기 분해 및 지역 제련을 통해 99.95%에서 99.99%, 99.999% 및 99.9999%로 정제됩니다. 중국에서 가장 높은 순도는 약 99.9999%(6N)입니다. 고순도 구리 잉곳을 원료로 하여 원료의 단조, 압연 및 열처리를 통해 구리 잉곳의 결정립을 더 작게 만들고 밀도를 증가시켜 스퍼터링용 구리 타겟의 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 변형 처리 후 고순도 구리 소재를 기계 가공합니다. 구리 타깃 가공은 고정밀, 표면 품질이 요구되며, 진공코팅기에서 요구하는 타켓 사이즈로 가공이 가능합니다.

화학 사양:

구리 스퍼터링 타겟 준비 공정

구리 스퍼터링 타겟 및 그의 제조방법

관련 스퍼터링 재료