아연 스퍼터링 타겟은 원료와 동일한 특성을 가지고 있습니다. 아연은 원자번호 30번의 원소기호 Zn의 화학원소로서 은백색의 푸른빛을 띤 금속으로 상온에서 부서지기 쉽고 100~150°에서는 무르며 200° 이상에서는 그것은 활성 화학적 성질을 가지고 있으며 공기 중 상온에서 표면에 얇고 조밀한 염기성 탄산 아연 피막이있어 더 이상의 산화를 방지하며 온도가 225 ° C 이상일 때 심하게 산화됩니다.
금속 아연은 자동차, 건설, 가전 제품, 선박, 경공업, 기계, 배터리 및 기타 산업에서 널리 사용되는 아연 도금, 아연 기반 합금, 산화 아연의 형태로 우수한 합금으로 만들 수 있습니다. 아연도금은 미관 및 방청을 목적으로 금속, 합금 또는 기타 소재의 표면에 아연층을 도금하는 표면처리 기술을 말합니다.
Zinc Sputtering Target은 용융 기술로 생산되며, 일반적으로 LED 및 OLED 제품의 발광막이 될 수 있는 ZnO 박막 증착이나 OLED 제품의 투명 전도막 및 박막의 반사 방지막에 사용됩니다.俢ells. 최대 4N 순도 및 특수 어닐링 처리, 균일한 입자 크기, 낮은 가스 함량을 통해 PVD 공정 중 일정한 침식 속도와 고순도 및 균일한 박막 코팅을 얻을 수 있습니다.
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